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G2GR20/1-氣壓燒結爐為周期作業(yè)式。適用于氮化硅陶瓷球，陶瓷刀具等材料在高壓氮氣或氬氣氣氛內(nèi)進行燒結。有利于增加材料的燒結密度，提高材料的機械性能。

G2GR20/10-氣壓燒結爐是指首先在低壓狀態(tài)下進行燒結工藝，然后在常壓下燒結材料達到疲勞狀態(tài)，后是在高氣壓下燒結（結果是進一步的增加材料疲勞狀態(tài)并迅速的消除材料中的應力），在高溫高氣壓燒結工藝后，材料的各方面機械性能（硬度，強度，韌性等）都優(yōu)于普通的燒結工藝。

H2MO13-真空氫氣爐是一種采用金屬鎢帶作為發(fā)熱元件及純金屬隔熱屏的全金屬熱場真空電阻爐。該設備具有高潔凈度、污染小、高真空度等優(yōu)點，主要應用于電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料等在真空或保護氣氛中高溫燒結。

H2MO17-真空氫氣爐廠家是專門針對于材料在氫氣環(huán)境或惰性氣體環(huán)境進行燒結或是退火，其溫度可高達1700℃。采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，以鉬棒作為加熱元件。對需在惰性氣體或還原性氣體環(huán)境下燒結的材料，是一個非常好的選擇。

H2W23-真空氫氣爐主要是用于半導體材料、納米材料、光線材料、銅粉，鈷粉，鎳粉，鎢粉，鉬粉，鎢粉，等在各種氣體保護下的各種復雜工藝，使物料與氫氣充分混合，氣體保護降溫，具有多種工藝氣體的流量控制。是科研、教學、生產(chǎn)、新材料研發(fā)的重要設備，廣泛適用于化工、電子、冶金、能源等行業(yè)領域。

S2D-放電等離子混合燒結系統(tǒng)是在兩電極間施加脈沖電流和軸向壓力，同時增加感應線圈加熱作為輔助加熱，進行粉末燒結致密化的一種新型快速燒結技術。 它具有溫度均勻性好、升溫速度快、燒結時間短、組織結構可控、節(jié)能環(huán)保等鮮明特點。